CIF推出的新一代科研型等離子清洗設(shè)備，合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。產(chǎn)品性能穩(wěn)定，操作簡(jiǎn)單方便，易維護(hù)。   

等離子清洗機(jī)原理

等離子體是一種中性、高能量、離子化的氣體。其中包括中性原子或分子、電子、活性基因、激發(fā)態(tài)的核素、光子等。等離子體是不同于固體、液體和氣體的物質(zhì)第四態(tài)，它由離子、電子以及未電離的中性粒子的集合組成，整體呈中性的物質(zhì)狀態(tài)。

等離子清洗機(jī)就是在真空腔體里，通過(guò)射頻電源在壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無(wú)序的等離子體，通過(guò)等離子體轟擊被清洗材料表面，改變材料表面性質(zhì)，優(yōu)化材料表面性能，從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性等目的。

應(yīng)用領(lǐng)域：

等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、新能源、線路板、LED、微流控、光電太陽(yáng)能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，主要用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的。  

產(chǎn)品特點(diǎn)

u7寸彩色觸摸屏中英文互動(dòng)操作界面，自動(dòng)控制監(jiān)測(cè)工藝參數(shù)狀態(tài)，20個(gè)配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲(chǔ)追溯。

uPLC控制整個(gè)清洗過(guò)程，手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式。

u采用美國(guó)德威爾（Dwyer）氣體浮子流量計(jì)或質(zhì)量流量計(jì)(CPC-FM)，可輸入氧氣、氬氣、氮?dú)狻錃饣蚧旌蠚?/span>等氣體，氣體控制精準(zhǔn)。

u氣體返填吹掃，HEPA高效過(guò)濾，防止二次污染。

u316不銹鋼、石英真空艙可選擇，全真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無(wú)污染。

u采用60度傾角操作面板設(shè)計(jì)，符合人體功能學(xué)，操作方便，界面友好。

u上控制下艙體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)緊湊，占地空間小。

u內(nèi)凹式前面板設(shè)計(jì)，有效保護(hù)流量計(jì)和艙門不易損壞。

u處理快速高效均勻，無(wú)污染，工藝重復(fù)性好。

u樣品處理溫度低，無(wú)熱損傷和熱氧化。

u安全保護(hù)，艙門打開(kāi)，自動(dòng)關(guān)閉電源。